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国产EDA实现新突破!芯和半导体EM仿线纳米认证
发布日期:2021-05-18 19:02   来源:未知   阅读:

  原标题:国产EDA实现新突破!芯和半导体EM仿线年以来,我国半导体国产化的步伐不断加快,在这一领域也取得了一系列突破性成就,非常令人激动。昨日早间,国产EDA产业又迎来了新的突破,国内知名EDA企业芯和半导体科技(上海)有限公司对外官宣称,其片上无源电磁场(EM)仿真套件已经成功通过了三星晶圆厂的8纳米低功耗(8LPP)工艺技术认证。

  该技术的成功标志着国产EDA实现了新的突破。据了解,芯和半导体研发的无源电磁场(EM)仿真套件由快速三维电磁场仿真器IRIS和快速自动PDK建模工具iModeler。

  我国企业在这一领域的发展速度并不算快,EDA产业的技术壁垒高,投资周期长,关键技术几乎都掌握在外国企业手中,而国内EDA企业的发展因缺乏产业生态和专业技术人才而受到制约。

  导致我国EDA产业发展缓慢的重要原因有EDA技术壁垒高和国内EDA专业人才缺口大两点。EDA工具是芯片设计得以实现的关键,作为芯片产业的最上游产业,EDA工具直接影响着芯片的性能、质量、生产效率和生产成本,因此这一环节要是出现问题影响是非常大的,这也是其技术壁垒高的原因。

  也许正是因为EDA技术壁垒太高,导致这一领域的专业人才相当匮乏,据了解,目前国内从事EDA技术研发的专业人员还不足2000人,本土的EDA研发人员更是只有500人左右。要想实现国内EDA产业的发展,这一局面是迫切需要改变的。

  不得不承认,国内EDA产业在发展过程中面临着太多的困难和挑战,但在不断的探索下,这些企业企业还是实现了一定的突破,此次芯和半导体实现的突破就是一个重大标志。芯和半导体研发的这款工具不仅可以解决国内芯片公司的需求,还给国内EDA产业的发展注入了新的活力,相信随着技术的不断突破,国内EDA企业还将迎来更好的发展。

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